Page modifiée à 13:47, 4 Nov 2014 par Laurent_Berge
Sommaire
aucun titre| Date | Labo | Intervenant | Technologie | Caractéristiques | Remarques - Masque |
| UMICOR | Ge | 44mm 150microns | |||
| CTU | Enrésinement pour TES NbSi | pas de LOL | |||
| CTU | Litho Laser + Developpement résine | Fichier "LUMINEU_v2 NbSi Laser" | |||
| 12-01-2014 | CSNSM | LB/LD | Evaporation NbSi | 500A-13,0% | Décapage in situ, 12.99% |
| CTU | Lift-off | acétone + LOL remover | |||
| CSNSM | Test Cryo NbSi | Tc=17mK | |||
| CTU | Enrésinement pour électrodes Al | LOL + AZ5214 |
| ||
| CTU | Litho Laser + Developpement résine | Fichier "LUMINEU_v2 électrodes 3.8" | |||
| CTU | Collage sur 2" | résine S1813 | 5min à 120° | ||
| CSNSM | Décapage Ar Evaporation Ge/Al | Ar(90V,6min) ? Ge(600A)/Al(1500A) | Ge sans H en tournant ? | ||
| CTU | lift | acétone + LOL remover | |||
| CTU | Enrésinement pour fuite thermique Au | LOL + AZ5214 | |||
| CTU | Litho Laser + Developpement résine | Fichier "LUMINEU_v1 Au" | |||
| CTU | Dépôt Au | ||||
| CTU | lift | acétone + LOL Remover |
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