Lumineu M10 :
Lumineu M10 :Edit

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Date	Labo	Intervenant	Technologie	Caractéristiques	Remarques - Masque
	UMICOR		Ge	44mm 150microns
01/12/14	CTU	SM	Enrésinement pour TES NbSi	S1813	115°C 90s
02/12/14	CTU	SM	Litho Laser	Tete 4mm, Filtre 10%, Energy 60%	Fichier "LUMINEU_v2 NbSi Laser"
02/12/14	CTU	SM	Developpement résine	40s MIF 319	OK (mais pas de casquette)
19/12/14	CSNSM	LB / SM	Evaporation NbSi	500A-13,3%	Nb: 13.29% p: 1.5.10-7 Décapage ionique 10min -11.76mA
19/12/14	CSNSM	SM	Lift-off	acétone	Lift-off difficile. Un petit secteur du wafer Ge cassé suite au passage aux ultrasons au CSNSM
06/01/14	CTU	SM	Recuit rapide Ar-H2	145 C - 5 min
	CSNSM		Test Cryo NbSi		Tc =
	CTU		Recuit rapide Ar-H2	300 C - 5 min
	CSNSM		Test Cryo NbSi		Tc=

	CTU		Recuit rapide Ar-H2	330 C - 5 min
	CSNSM		Test Cryo NbSi		Tc=
	CTU		Enrésinement pour électrodes Al	S1813	110°C 90s
	CTU		Litho Laser + Developpement résine		Fichier "LUMINEU_v2 électrodes 3.8"
	CSNSM		Décapage Ar Evaporation Ge/Al	Ar(90V,6min) ? Ge(600A)/Al(1500A)	Ge sans H en tournant ?
	CTU		lift	acétone
	CTU		Enrésinement pour fuite thermique Au	S1813	110°C 90s
	CTU		Litho Laser + Developpement résine		Fichier "LUMINEU_v1 Au"
	CTU		Dépôt Au
	CTU		lift	acétone