Saphir 20x30 Test 1
Saphir 20x30 Test 1Edit

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Date	Labo	Intervenant	Technologie	Caractéristiques	Remarques - Masque
	CSNSM	LB	Saphir 20x30	poli 2 faces	Nettoyage CSNSM
30/10/15	CTU	SM	Netoyage	Plasma O2, 3minutes 200W Acetone + EDI
30/10/15	CTU	SM	Enrésinement pour lift-off NbSi	S1805 (résine positive)	S1805 (115° 90s)
30/10/15	CTU	SM	Litho Laser	Tête 4mm Filtre 1% dose80% (nouvelle lampe LED)	Design : SUCRE_Test_20x30_v1_Laser Développement 25s 351 + EDI (1:4)
05/11/15	CSNSM	LB + SM	co-évap NbSi	14.0% 300A	%: 14.01 4 plaquettes 20x30 Pas de décapage ionique (Pas de pb pour la soudure aux ultrasons sur le NbSi en fin de process) p: 1.0 10-7
05/11/15	CTU	SM	Retrait résine	Acétone	ultrasons 5m Très mauvaise qualité du lift, beaucoup de lignes des méandres arrachées