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Sommaire

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Date	Labo	Intervenant	Technologie	Caractéristiques	Remarques - Masque
	Si-Mat		SOI (5-1-500microns) SiN LPCVD (0.5 micron)
09/09/14	CTU	DN	Litho routage Nb	AZ5214 QUBIC_250 routage Peigne	primer + AZ5214 (115° 1 min) 1ere inso: 1.5s - recuit 125° 1 min 2ème inso: 12s - dév 28s MIF 726 hotte litho 19° 45% humidité => parfait ! belle casquette, très peu de poussières
12/09/14	CSNSM	LB	Evaporation Nb/Ir	250 A Nb + 30 A Ir	p : 4.10-8
16/09/14	CTU	DN	Lift-off		Acétone chaud + ultrasons 5 min => OK !
13/10/14	CTU	DN	Enrésinement pour lift-off senseur NbSi	AZ5214 QUBIC_250 NbSi Peigne Litho MJB4	primer + AZ5214 (115° 1 min) 1ere inso: 1.5s - recuit 125° 1 min 2ème inso: 12s - dév 28s MIF 726 Litho réussie au 5ème essai !
07/11/14	CSNSM	LB-SM	Evaporation NbSi	15.50% - 300A	15.49% p: 4.10-7
07/11/14	CSNSM	SM	Lift-off	Acétone	Lift-off du NbSi, rinçage eau DI
09-14/11/14	CSNSM	SM	Mesures à froid
17/11/14	CTU	SM	Enrésinement pour lift-off Pads Al	AZ5214 QUBIC_250 Pads	Primer + AZ5214 (recuit 115° 1 min) 1ère inso: 1.5s - recuit 125° 1 min 2ème inso: 13s - dév 28s MIF726
Pas fait	CTU		Délaqueur		12 s plasma O2 RIE STS
17/11/14	CTU	LD	Evaporation Pads Al	2000A	Pas de décapage Evaporateur CSNSM
18/11/14	CTU	SM	Lift-off	Acétone	Rinçage iso et eau
18/11/14	CTU	SM	Erreur de manipulation Le wafer est trempé dans du MIF319 (developpeur)	L'Aluminium des Pads est dissout. Une nouvelle étape Pads Al sera faite après le TiV
18/11/14	CTU	SM	Enrésinement pour lift-off Grille TiV	AZ5214 QUBIC_250 Grille v3	Primer + AZ5214 (recuit 115° 1 min) 1ère inso: 1.5s - recuit 125° 1 min 2ème inso: 12s - dév 28s MIF726
	CSNSM		Evaporation TiV + SiO		155A TiV + 150 A SiO
	CTU		Lift-off	Acétone	10 min ultrasons - rinçage iso + eau
	CTU		Enrésinement pour ouverture membrane	AZ4562 QUBIC_250 Deep RIE	AZ4562 recuit 1h 90° + AZ9260 pour protection face avant recuit 5 min 70° Insolation 40s - Développement 5 min dans AZ 400K:eau (1:4)
	CTU		gravure SiN	RIE
	CTU		Gravure profonde Si et SiO2	ICP SPTS
	CTU		Nettoyage polymère	Plasma SF6
	CTU		Retrait résine		IPA pour graisse thermique puis acétone + 1165 chaud pour la résine
	CTU		Enrésinement structuration membranes	AZ5214 QUBIC_250 Membranes v4 Soft contact
	CTU		gravure SiN	RIE
	CTU		Gravure Si résiduel	XeF2
	CTU		Retrait résine	RIE