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Physol Nano-Fab > Projets > Détecteurs cryogéniques > QUBIC250 > QUBIC250_Peigne > P_01 - P_40 > P 33
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P 33
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    Sommaire
    aucun titre

     

    Date Labo Intervenant Technologie Caractéristiques Remarques - Masque

     

    		 University wafer  

    SOI (5-1-500microns)

    SiN LPCVD (0.5 micron)

    		    
    20/05/14 CTU DN + CP Litho routage Nb

    AZ5214

    QUBIC_250 routage Peigne

    		 primer + AZ5214 (115° 1 min)
    1ere inso: 1.5s - recuit 125° 1 min
    2ème inso: 13s - dév 25s MIF 726
    22/05/14 CSNSM LB Evaporation Nb/Ir Nb(150A) + Ir (30A) Nb(150A) + Ir (30A)
    03/06/14 CTU DC+DN Lift-off  

    24h acétone + 1165 avec US pour enlever les résidus tenaces

    => OK
    04/06/14 CTU DN Enrésinement pour lift-off senseur NbSi

    AZ5214

    QUBIC_250 NbSi Peigne

    primer + AZ5214 (115° 1 min)
    1ere inso: 1.5s - recuit 125° 1 min
    2ème inso: 13s - dév 35s MIF 726

    belle casquette
    27/06/14 CSNSM LB-LD Evaporation NbSi 500A - 15,50% + 125A SiO 15.50 %Nb: % ; 125 A SiO
    30/06/14 CTU DN Lift-off

    Acétone

    Acétone chaud, rinçage IPA, eau + US

    Lift difficile. Il reste des filaments de NbSi.
    07/07/14 CTU DN Enrésinement pour lift-off Pads Al

    AZ5214

    QUBIC_250 Pads

    		 Primer + AZ5214 (recuit 115° 1 min)
    1ère inso: 1.5s - recuit 125° 1 min
    2ème inso: 13s - dév 28s MIF726
    08/07/14 CTU DN Délaquage   12s plasma O2 RIE STS
    08/07/14 CTU DN Evaporation Pads Al 2000A

    Pas de décapage Ar

     Evaporateur Plassys   v = 0.3nm/s, I=0.25A, P  = 4,7.10-7 Torr

    08/07/14 CTU DN Lift-off Acétone Rinçage iso et eau
    18/07/14 CSNSM SM Mesures à froid    
      CTU DN Enrésinement pour lift-off Grille TiVa

    AZ5214

    QUBIC_250 Grille v3

    		 Primer + AZ5214 (recuit 115° 1 min)
    1ère inso: 1.5s - recuit 125° 1 min
    2ème inso: 12s - dév 25s MIF726
      CSNSM LD Evaporation TiVa    
      CTU DN Lift-off Acétone 10 min ultrasons ? - rinçage iso + eau ?
      CTU   Enrésinement pour ouverture membrane

    S1813

    QUBIC_250 Deep RIE

    		  
      CTU   gravure SiN RIE  
      CTU   Gravure profonde Si et SiO2 ICP SPTS  
      CTU   Nettoyage polymère Plasma SF6  
      CTU   Retrait résine   IPA pour graisse thermique puis acétone et 1165 chaud pour résine
      CTU   Enrésinement structuration membranes

    AZ5214

    QUBIC_250 Membranes v4

    Soft contact

    		  
      CTU   gravure SiN RIE  
      CTU   Gravure Si résiduel XeF2  
      CTU   Retrait résine RIE  
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