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Rx_14 (Iridium)
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    Sommaire
    aucun titre

     

    Date Labo Intervenant Technologie Caractéristiques Remarques - Masque
     

    University

    Wafers

    		    

    Wafer Si 3"

    1micron SiN

    		  
    06/06/14 CTU DN Enrésinement pour electrodes Ir AZ5124 + primer Masque " Rx 2x2 PRE-CONTACTS"
    12/06/14 CSNSM LD Evaporation Ir 20A Ti + 200A Ir p: 1.4.10-8
    17/06/14 CTU DN Enrésinement pour chauffage Au AZ5124 + primer Masque " Rx 2x2 CHAUFFAGE"
    18/06/14 CTU DN Plasma O2 RIE STS 70sccm 120W 12s  
    18/06/14 CTU DN Evaporation Au Ti 20A + Au 500 A Evap Plassys
    18/06/14 CTU DN Lift-off Acétone RAS
    18/06/14 CTU DN Enrésinement pour TES NbSi AZ5214 + primer

    Masque "Rx 2x2 MEANDRE"

    115° 1 min - 1.5s - 125° 1 min - 13s

    dév 28s MIF 726
    27/06/14 CSNSM LB /LD

    Evaporation NbSi

    		 500 A - 13,70% 13.94 %  sans SiO
      CTU DN Lift-off acétone 5 min ultrasons  -   Rinçage iso + eau
    17/07/14 CSNSM SM Mesures à froid    
    07/10/14 CTU DN Enrésinement pour trous traversants

    Résine AZ4562

    recuit  1h à 90°  - insolation 40s

    dév 4 min 30s dans AZ400K:eau (1:4)
    14/10/14 CTU DN Gravure nitrure RIE STS recette Nitiram 39min 30s
    17/10/14 CTU DN Gravure profonde Si 1h30 recette Qubic_etch  
    17/10/14 CTU DN Nettoyage résidus Acétone + 1165 Les résidus sont partis facilement à l'acétone + un peu d'ultrasons (pour casser les membranes SiN au fond des trous) => propre
    11/2014 CTU D. Bouville Découpe scie    
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