Date | Labo | Intervenant | Technologie | Caractéristiques | Remarques - Masque |
University wafer | SiN LPCVD | 5.OOOA Super low stress | |||
CTU | AAD | Enrésinement pour lift-off Electrodes Nb | QUBIC_250 Routage méandre | ||
17/12/12 | CSNSM | LD-LB | Evaporation Nb/Ir | 150A/30A | 150A / 30A |
CTU | AAD | Lift-off | Acétone-Isopropanol | ||
CTU | AAD | Enrésinement pour lift-off senseur NbSi | QUBIC_250 NbSi méandre | ||
14/01/13 | CSNSM | LD-LB | Evaporation NbSi | 500A-14,50% | 14,48 Tc = 200mK (mesurée) |
CTU | AAD | Lift-off | Acétone-Isopropanol | ||
29/01/13 | CTU | AAD | Enrésinement pour lift-off Grille TiVa | QUBIC_250 Grille v3 | |
15/05/13 | CSNSM | LD-LB | Evaporation Ti-V 5% / SiO | Ti-Va 180 / SiO 200 | |
21/05/13 | CTU | AAD | Lift-off | Acétone-Isopropanol | |
22/05/13 | CTU | AAD | Enrésinement pour lift-off Pads Al | QUBIC_250 Pads | Ajout d'une deuxième couche de résine AZ5214 au pinceau-recuit 5min 120° |
23/05/13 | CSNSM | LD | Evaporation Pads Al | 1000A pas de décapage Ar | 1200A° effectifs (1500A° sur QP2 évaporateur bolos) |
24/05/13 | CTU | AAD | Lift-off | Acétone-Isopropanol | |
CSNSM | SM | carac | |||
CTU | BB | Enrésinement pour ouverture membrane |
QUBIC_250 Deep RIE | ||
CTU | BB | Gravure SiN | deep-RIE | ||
CTU | BB | Gravure profonde Si | deep-RIE | ||
07/11/13 | CTU | AAD | Enrésinement structuration membranes | QUBIC_250 Membranes v3 Hard contact | Wafer cassé suite à un collage sur le masque lors de l'alignement. Hard contact. L'échantillon est resté collé et s'est cassé en se décolant. |
Fichier | Taille | Date | Attaché par | |||
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M_01 Dispo complet avant membranes.png Aucune description | 30.89 Ko | 15:56, 16 Jan 2014 | anne_aelle_drillien | Actions |