Saphir 20x30_4
Saphir 20x30_4Edit

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Date	Labo	Intervenant	Technologie	Caractéristiques	Remarques - Masque
			Saphire 20x30	poli 2 faces	Netoyage CSNSM
27/01/15	CTU	SM	Netoyage	Acetone + ultrasons 10min isopropylène, EDI
27/01/15	CTU	SM	Delaqueur Pico RF	Plasma 02 150W, 1mbar, 1min
27/01/15	CTU	SM	Enrésinement pour lift-off NbSi	LOL2000 + S1805 (résine positive)	LOL (180°C 4m) + S1813 (115° 90s)
27/01/15	CTU	SM	Litho Laser	Tête 4mm Filtre 50%+10% Dose 50%,	Design : 04_RBull20x30_4 Développement 25s 351 + EDI (1:4) Développement 20s MIF 726 pour la LOL (20 s au MIF726 est un peu juste. A 30s un peu trop -> undercut proche de 0.5microns pour RBull_03. Optimum probable avec 25s de MIF726)
29/01/15	CSNSM	LB + SM	co-évap NbSi	13,30% 500A	4 plaquettes 20x30 collés sur un wafer 3" pour le NbSi %Nb: 13.29% p: 1.10-7 (Rbull_03 et 04 + 2 20x30 pleine plaque)
	CTU	SM	Retrait résine acétone + remover		ultrasons 20m Mauvaise qualité du lift (pb accrochage NbSi?)
	CTU	SM	Recuit Ar-H	110°C - 5m	Très mauvaise régulation (oscillations 105-115°C) Plaquettes un peu épaisses pour le four
	CSNSM	SM	Test cryo		Tc = mK