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Saphir 20x30_2
Saphir 20x30_2Edit

    Sommaire
    aucun titre
    Date Labo Intervenant Technologie Caractéristiques Remarques - Masque

     

    		    

    Saphire 20x30

    		 poli 2 faces Netoyage CSNSM
    16/01/15 CTU SM Netoyage

    Acetone + ultrasons 10min

    isopropylène,  EDI

    		  

    16/01/15

    		 CTU SM Delaqueur Pico RF

    Plasma 02

    100W, 0.8mbar, 1min

    		  
    16/01/15 CTU SM Enrésinement pour lift-off  NbSi

    S1813

    (résine positive)

    primer + S1813 (115° 90s)
    16/01/15 CTU SM Litho Laser

    Tête 4mm

    Filtre 10%, Dose 60%,

    Design : 04_RBull20x30_2

    Développement 25s dans

    AZ 351 + EDI (1:4)

    19/01/15

    		 CSNSM LB + SM co-évap NbSi 13,3% 500A %Nb: 13.28% p: 1.10-7
    19/01/15 CTU SM Retrait résine acétone + remover  

    ultrasons 20m

    Mauvaise qualité du lift (pb accrochage NbSi?)
    19/01/15 CTU SM Recuit Ar-H 110°C - 5m

    Très mauvaise régulation

    (oscillations 105-115°C)

    Plaquettes un peu épaisses pour le four
      CSNSM SM Test cryo   Tc = mK
               
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     RBull20x30_2_Laser.GDS
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    		828.7 Ko20:20, 18 Jan 2015Stefanos_MarnierosActions
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