Page modifiée à 12:41, 29 Jan 2015 par Laurent_Berge
Sommaire
aucun titre| Date | Labo | Intervenant | Technologie | Caractéristiques | Remarques - Masque |
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| Saphire 20x30 | poli 2 faces | Netoyage CSNSM | ||
| 26/01/15 | CTU | SM | Netoyage | Acetone + isopropylène, EDI | |
| 26/01/15 | CTU | SM | Enrésinement pour lift-off NbSi | (résine positive) | LOL (180°C 4m) + S1813 (115° 90s) |
| 26/01/15 | CTU | SM | Litho Laser | Tête 4mm Filtre 50%+10% Dose 50%, | Design : 04_RBull20x30_3 Développement 25s 351 + EDI (1:4) Développement 20+10s MIF 726 pour la LOL (casquette très prononcée, environ 500nm) |
| 29/01/15 | CSNSM | LB + SM | co-évap NbSi | 13,30% 500A | 4 plaquettes 20x30 collés sur un wafer 3" pour le NbSi %Nb: 13.29% p: 1.10-7 (Rbull_03 et 04 + 2 20x30 pleine plaque) |
| CTU | SM | Retrait résine acétone + remover | ultrasons 20m Mauvaise qualité du lift (pb accrochage NbSi?) | ||
| CTU | SM | Recuit Ar-H | 110°C - 5m | Très mauvaise régulation (oscillations 105-115°C) Plaquettes un peu épaisses pour le four | |
| CSNSM | SM | Test cryo | Tc = mK | ||
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