Page modifiée à 11:30, 13 Jun 2013 par anne_aelle_drillien
Sommaire
aucun titre| Date | Labo | Intervenant | Technologie | Caractéristiques | Remarques - Masque |
| PTA Grenoble | électrodes épaisses | Ti:TiN:Au d'environ 190nm | lift-off LOR | ||
| CTU | AAD | Enrésinement pour dépôt NbSi | AZ5214 | Masque "Rayons X NbSi v1" | |
| CSNSM | LB | Evap TES NbSi SiO | NbSi 300A 14% | ||
| CTU | AAD | lift | acétone-isopropanol |
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