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Lucifer_03
Lucifer_03Edit

    Sommaire
    aucun titre

    Tc = 200mK

     

    Date Labo Intervenant Technologie Caractéristiques Remarques - Masque
      UMICOR     Ge 400microns  
      CTU AAD Enrésinement pour lift-off Electrodes NbSi

    AZ5214

    Lumière_v1_NbSi

    		  
    17/05/13 CSNSM LD-LB

    dépôt NbSi/SiO

    		 13,50% 1000 A 13,48
    21/05/13 CTU AAD Lift-off Acétone-Isopropanol  
    24/05/13 CTU AAD Enrésinement pour lift-off pré-contact Al

    AZ5214

    Lumière_v1_Pre-contact    		 Echec : Le masque est un 4", incompatible avec l'aligneur EVG, l'échantillon est incompatible avec l'aligneur MJB4
    24/05/13 CTU AAD nettoyage wafer Acétone-isopropanol wafer cassé en 3 morceau à cette étape
    29/05/13 CTU DB-AAD Découpe scie diamantée  
    29/05/13 CTU AAD Observation microscope photos

    11 senseurs continuent l'aventure

    10 senseurs sont coupés d'un seul côté.

    8 senseurs sont coupés (défauts litho)

    3 senseurs sont cassés (lors du nettoyage)
      CSNSM SM     Test cryo : Tc = 200mK
    12/2014 CTU SM Recuit 2 échantilons 4x4 à 230C 5m Recuit Ar-H Test cryo : Tc = 80mK
    01/2014 CTU SM Recuit 2 échantilons 4x4 à 275C 5m Recuit Ar-H Test cryo : Tc=mK
               
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