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Lucifer_01
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    Sommaire
    aucun titre

     

    Date Labo Intervenant Technologie Caractéristiques Remarques - Masque
      UMICOR     Ge 400microns  
      CTU AAD SiN PECVD 500A process "lfSiN05" 1min
      CSNSM LB-AAD Dépôt NbSi 200A-14,5%  
    21/10/11 CTU AAD Enrésinement pour gravure RIE

    AZ5214

    Lumière_v1_NbSi

    wafer cassé
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