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Lucifer_02
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    Sommaire
    aucun titre

     

    Date Labo Intervenant Technologie Caractéristiques Remarques - Masque
    15/12/11 UMICOR     Ge 400microns  
      CTU AAD SiN PECVD 500A process "lfSiN05" 1min
      CSNSM LB-AAD Dépôt NbSi 200A-14,5%  
      CTU AAD Enrésinement pour gravure RIE

    AZ5214

    Lumière_v1_NbSi

     
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