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Lithography
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    Different wafers used
    Date Name Material orient resistivity oxide coating thick (µm) diam (mm) ref.
    provider
    provider intervenants links comments
      GeCo1 Ge 100     70nm SiO 175 44   umicore   carac  
      GeCo3 Ge 100     70nm SiO 175 44   umicore   carac mechanical masks FID
                               
    11-2015 SID1 Si 100 >10 kΩ.cm no no 350+/-25 50.8 2602 university
    wafers
    hls, fab, carac 1st test litho, Interdig
                               
                               
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