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Sommaire
- 1. Wafers used
Wafers used
| Date | Nom | orientation | resistivity | oxide layer | ref. fabricant | fournisseur | composition | utilisation |
| 01/2013 | QPSPJ1 | standard | yes | spec | NbSi 18% 15nm + SiO 5nm | dév process + resonators Q200 & Q2000 | ||
| /2013 | QPSPJ2 | 100 | 3-4kΩ.cm | no | 2451 | university wafers | NbSi 18% 15nm | no oxide + reson higher Qs + first QPS oscillator |
| 11/2013 | QPSLN1 | 100 | 3-4kΩ.cm | no | 2451 | university wafers | NbSi 18% 15nm | reson optical litho + field effect |
| 03/2014 | QPSPJ3 | 100 | 3-4kΩ.cm | no | 2451 | university wafers | NbSi 23% 5nm + Si 10nm | |
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Fichiers 4
| Fichier | Taille | Date | Attaché par | |||
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 | mask_TiN_CQPS00001.jpg masque raté | 416.56 Ko | 19:00, 16 Jul 2012 | Helene_Le_Sueur | Actions | |
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