Litho LOL2000

Litho LOL2000Edit

La sous-couche LOL2000 permet d'obtenir un profil en casquette pour réaliser des lift-off. Il faut la combiner avec une autre résine (positive ou négative).

Process:

• Spin LOL2000 à 4000 rpm pendant 30s => environ 150 nm d'épaisseur
• Recuit 5 min à 150°. La température de recuit joue sur la vitesse de dissolution de la LOL2000 dans le développeur, il faut donc toujours conserver la même température.
• Spin résine AZ5214S à 4000 rpm pendant 30s => environ 1.4 µm d'épaisseur
• Recuit 1 min à 125°
• Insolation 2s aligneur double face
• Recuit 1 min à 125°
• Insolation pleine plaque 12s aligneur double face
• Développement au MIF 726  25s puis rinçage eau DI

Influence du temps de développement sur l'undercut:

• 25s => 750 nm
• 30s => 1.6 µm
• 35s => 3 µm

Attention la LOL2000 ne se dissout pas à l'acétone. Prévoir le remover 1165 pour enlever la sous-couche après le lift-off. Pour le nettoyage de la tournette, on peut aussi utiliser du développeur (par exemple MIF726).