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Saphir f20h20
Saphir f20h20Edit

    Sommaire
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    Date Labo Intervenant Technologie Caractéristiques Remarques - Masque

     

       

    Cristal Saphir fi20 h20

    poli 2 faces Netoyage CSNSM
    13/01/15 CTU SM Netoyage

    Acetone + ultrasons 10min

    isopropylène,  EDI

     
    13/01/15 CTU SM Enrésinement pour lift-off  NbSi

    S1813

    (résine positive)

    primer + S1813

    Tournette primer 6000 tr/m (erreur)

    Tournette S1813 2000 tr/m

    (Echantillon sur bande adhésive)

    13/01/15 CTU SM Etuve résine Etuve 115°C, 10min  
    13/01/15 CTU SM Litho Laser

    Tête 4mm

    Filtre 10%, Dose 60%,

    Design : LUMINEU_v2 NbSi Laser

    Saphir collé avec résine sur l'adaptateur des cristaux h20mm

    Développement 25s dans AZ 351 + EDI (1:4)

    14/01/15

    CSNSM LB + SM co-évap NbSi 13,3% 500A  
    14/01/15 CTU SM Retrait résine acétone  

    20m + ultrasons 5m. + isopropylène

    20m Remover. OK

    19/01/15 CSNSM SM Recuit etuve 120°C 1h sous flux Azote  
      CSNSM SM Test cryo   Tc = mK
               
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